天眼查logo
国家中小企业发展子基金旗下
官方备案企业征信机构

天眼查专利上海交通大学专利详情

在基底上形成图案的方法及其应用

有效
专利申请流程有哪些步骤?
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2020-03-06
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2020-08-14
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
2021-07-16
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2040-03-06
基本信息
申请号CN202010150705.7申请日2020-03-06
申请公布号CN111538212A申请公布日2020-08-14
授权公告号CN111538212B授权公告日2021-07-16
优先权号
专利优先权是指专利申请人就其发明创造第一次提出专利申请后,在法定期限内,又在中国以相同主题的发明创造提出专利申请的,根据有关法律规定,其在后申请以第一次专利申请的日期作为其优先权日,专利申请人依法享有的这种权利,就是优先权。
专利优先权的目的在于,避免在优先权日与实际申请日之间公开的技术内容影响本申请的新颖性和创造性。
-优先权日
专利优先权是指专利申请人就其发明创造第一次提出专利申请后,在法定期限内,又在中国以相同主题的发明创造提出专利申请的,根据有关法律规定,其在后申请以第一次专利申请的日期作为其优先权日,专利申请人依法享有的这种权利,就是优先权。
专利优先权的目的在于,避免在优先权日与实际申请日之间公开的技术内容影响本申请的新颖性和创造性。
-
分类号
G02B5/18
G 物理
G02 光学
G02B 光学元件、系统或仪器(G02F优先;专用于照明装置或系统的光学元件入F21V1/00至F21V13/00;测量仪器见G01类的有关小类,例如,光学测距仪入G01C;光学元件、系统或仪器的测试入G01M11/00;眼镜入G02C;摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B;声透镜入G10K11/30;电子和离子“光学”入H01J;X射线“光学”入H01J,H05G1/00;结构上与放电管相组合的光学元件入H01J5/16,H01J29/89,H01J37/22;微波“光学”入H01Q;光学元件与电视接收机的组合装置入H04N5/72;彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N9/00;专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B3/84)〔1,7〕
G02B5/00 除透镜外的光学元件(光波导入G02B6/00;光学逻辑元件入G02F3/00)〔4〕
G02B5/18 ·衍射光栅
G03F7/00
G 物理
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备(照相排版装置入B41B;为摄影用的感光材料或处理入G03C;电记录、感光层或处理入G03G)
G03F7/00 图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44C,H01L,例如,H01L21/00,H05K)〔3,5〕
申请人信息
申请(专利权)人发明人姜学松;李甜甜
地址上海市闵行区东川路800号邮编200240
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
赵艳
摘要
本申请涉及一种在基底上形成图案的方法及其应用。具体地,本申请的方法包括如下步骤:(a)将光敏材料和聚合物在溶剂中的溶液施涂于所述基底上并干燥,从而形成涂膜,其中所述光敏材料在紫外光照射下可直接发生光化学反应;以及(b)穿过非接触式掩模,对所述涂膜进行紫外光照射,在照射过程中,所述光敏材料从涂膜的非曝光区迁移至曝光区,使得所述曝光区按照所述掩模版的图案进行生长,从而在所述涂膜上形成所述图案。而且,根据本发明的方案尤其适于体光栅的制备和芯片的图案化封装。
在基底上形成图案的方法及其应用
法律状态
序号法律状态公告日法律状态法律状态信息
12021-07-16授权授权
22020-08-14公布公布
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
 
截止目前暂无权利要求信息
说明书
大家都在办
专利诉讼
专利诉讼
为您提供专利权争议帮助
专利转让
专利转让
购买专利,简单快捷,最快15天完成
专利变更
专利变更
申请专利著录项目变更
专利无效
专利无效答辩
帮助您应对无效宣告,提高成功率
发明专利
发明专利申请
专业顾问,保护您的知识产权
产品外观
产品外观专利申请
专业顾问,保护您的产品和设计
小程序
天眼查小程序
APP
天眼查APP
微信
天眼查微信公众号
反馈
客服
顶部
天眼查客服:400-608-0000
版权所有:北京天眼查科技有限公司 ©2020 TIANYANCHA 京ICP备18045476号-6  增值电信业务经营许可证:京B2-20210267 
违法和不良信息举报电话:400-608-0000
举报邮箱:jubao@tianyancha.com