CN112164969A_激光补偿光学系统和准分子激光退火设备在审
| 申请号 | CN202011050289.X | 申请日 | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号 | CN112164969A | 公开（公告）日 | 2021-01-01 |
| 申请公布号 | CN112164969A | 申请公布日 | 2021-01-01 |
| 分类号 | H01S3/10;H01S3/105;H01L21/67 | 分类 | 基本电气元件 |
| 发明人 | 全祥皓;姜畯盛;路兆里;刘松林;李若尧;朴海兰 | 申请（专利权）人 | |
代理机构专利代理机构是经省专利管理局审核，国家知识产权局批准设立，可以接受委托人的委托，在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。 要想区分是否属于正规的专利代理机构，可以到专利局网站上查询，有专门的专利代理信息页，还包括了正规专利代理机构中的违规行为的惩戒等。 | 北京清亦华知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务，取得一定资格的人。专利代理师应具备一定的条件，经考核批准，由国家知识产权局颁发专利代理师资格证。 | 黄琼 |
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
| 摘要 | 本申请公开了一种激光补偿光学系统和准分子激光退火装置。激光补偿光学系统包括：激光源、分束器和回转组件，激光源向分束器发射激光光束。分束器将激光源发射的激光光束分为沿不同路径传输的第一光束和第二光束。回转组件将第二光束回转并反射至分束器以使第一光束与回转后的第二光束合束输出。本申请实施方式的激光补偿光学系统将激光源发射的原始激光光束分为第一光束和第二光束，通过将第二光束回转后与第一光束合束输出，从而改善原始激光光束的非对称性，提高输出光束的稳定性，有利于在低温多晶硅薄膜制造过程中提高多晶硅薄膜的质量，改善薄膜表面平坦性，提高晶粒尺寸及晶粒均匀性的控制。 |
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| 序号 | 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
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| 1 | 2021-01-01 | 公开 | 公开 |
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